MaC
Partisano
Desarrollado por Digital Concealment Systems, el nuevo A-TACS (Advance Tactical Concealment System) [Sistema táctico avanzado de ocultación] fue presentado recientemente en Tactical-Life.com. Claramente el resultado de abundantes quejas y recientes artículos concernientes al ACU (Army combat uniform), ha sido diseñado para ambientes áridos
Su presentacion oficial esta prevista para el 19 de Enero del 2010 en el Shot Show en Las Vegas
Aunque no lo parezca, es en realidad un patrón digital y utiliza "pixeles orgánicos". Este método de pixelizacion esta diseñado para eliminar los ángulos rectos visibles en los patrones digitales tradicionales, y asi evitar que el patrón forme gotas cuando es visto a la distancia.